在过去的几年中,ASML公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场,又一次刷新了半导体制造的路线图.通过对浸没式光刻技术的再现和......

针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战.其中包含0.85NA双载具193nm TWINSCAN的设计、性能......

在过去的几年中，ASML公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场，又一次刷新了半导体制造的路线图。通过对浸没式光刻技术的再现和提......

For 193-nm lithography, water proves to be a suitable immersion fluid. ArF immersion offers the potential to extend conv......